中微取得的成就無(wú)疑是令人興奮的，但也并不能夸大其詞，不符合客觀實(shí)際。

2017年3月，中微半導(dǎo)體設(shè)備公司宣布將在當(dāng)年年底正式敲定5nm刻蝕機(jī)。在半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)被歐美日霸占的情況下，一家中國(guó)公司能有這樣的產(chǎn)品是非常了不起的。中微半導(dǎo)體現(xiàn)在的董事長(zhǎng)兼CEO尹志堯之前在美國(guó)硅谷一直從事半導(dǎo)體工作，在美國(guó)應(yīng)用材料（全球第一大半導(dǎo)體設(shè)備企業(yè)）中就擔(dān)任過(guò)總公司副總裁一職。2004年，尹志堯從美國(guó)回到中國(guó)，同年在上海創(chuàng)辦中微半導(dǎo)體。

關(guān)于5nm刻蝕機(jī)，給大家簡(jiǎn)單介紹一下。在過(guò)去九年中，中微半導(dǎo)體先后承擔(dān)并圓滿完成了65-45納米、32-22納米、22-14納米共三項(xiàng)刻蝕機(jī)的研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化任務(wù)（國(guó)家02重大專(zhuān)項(xiàng)任務(wù)）。這使得國(guó)內(nèi)刻蝕機(jī)技術(shù)基本與國(guó)外同行先進(jìn)水平保持了同步。中微半導(dǎo)體現(xiàn)在研發(fā)的是全球最先進(jìn)的5納米等離子（介質(zhì)）刻蝕機(jī)。在整個(gè)芯片制造工藝過(guò)程中，刻蝕工藝只是其中一環(huán)。也就是說(shuō)，這僅僅是5nm工藝技術(shù)一個(gè)組成部分，且不是最重要的組成部分。5nm工藝節(jié)點(diǎn)最重要的設(shè)備應(yīng)該是光刻機(jī)。光刻機(jī)負(fù)責(zé)拍照片把集成電路的影像印在硅晶元上，蝕刻機(jī)則負(fù)責(zé)把光刻機(jī)的影像腐蝕出來(lái)變成電路。因此，網(wǎng)絡(luò)上的許多報(bào)道是夸大了中微的成就。2017年4月，中微半導(dǎo)體發(fā)布了一則聲明：“正是中微的客戶——國(guó)際一流的集成電路制造廠商，推動(dòng)了芯片技術(shù)和生產(chǎn)一代又一代的進(jìn)步。中微作為設(shè)備公司，是向他們提供可加工先進(jìn)器件的設(shè)備，協(xié)助他們實(shí)現(xiàn)新一代器件的開(kāi)發(fā)和生產(chǎn)。中微不可能脫離他們的5納米技術(shù)開(kāi)發(fā)，而獨(dú)立地掌握5納米技術(shù)。”這是一個(gè)比較客觀的聲明。

綜上所述，中微取得的成就無(wú)疑是令人興奮的，但也并不能夸大其詞，不符合客觀實(shí)際。因?yàn)?，論半?dǎo)體工藝，英特爾、臺(tái)積電和三星依然是世界上最領(lǐng)先的三家公司。

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