比頭發(fā)絲還薄的金屬薄膜,耐高溫可用于MEMS設備
一款新型的具有高強度、高密度且導電、導熱能力更強的材料是行業(yè)迫需的。
近日,約翰·霍普金斯大學研發(fā)出了一款金屬薄膜,因其具有超常的抗拉強度、耐熱、耐高溫性等,可用于制造傳感器等微機電系統(tǒng)(MEMS)設備。
該款金屬薄膜研發(fā)人員表示,其實他們早就開始研發(fā)復合型新材料了。當前,大多的微機電設備內(nèi)部結(jié)構(gòu)較為復雜,尺寸也很小,材料主要由硅組成。雖然在常溫環(huán)境下,此類設備是可以正常運行的,但在高溫環(huán)境下,設備就無法正常運行甚至完全不能執(zhí)行電子訊號傳導任務。除此之外,硅質(zhì)材料比較脆,容易破碎,不易長期使用和保存。所以,一款新型的具有高強度、高密度且導電、導熱能力更強的材料是行業(yè)迫需的。
此外,研發(fā)人員還表示,新型材料還應可長期維持形狀,所以它們的制作及塑形還需要達到微觀標準。
據(jù)了解,此次的新材料結(jié)合了金屬鎳、鉬、鎢等,不僅保證了其外形的穩(wěn)定性,還提升了材料的耐高溫性。而為了讓材料盡量薄,研發(fā)團隊先將合金氣化,讓其保持原子的狀態(tài)并積聚在表面或基材上,從而獲得獨立的可剝離的合金薄膜,平均厚度為29微米,甚至小于人類發(fā)絲的直徑。
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