中微取得的成就無疑是令人興奮的，但也并不能夸大其詞，不符合客觀實際。

2017年3月，中微半導(dǎo)體設(shè)備公司宣布將在當年年底正式敲定5nm刻蝕機。在半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)被歐美日霸占的情況下，一家中國公司能有這樣的產(chǎn)品是非常了不起的。中微半導(dǎo)體現(xiàn)在的董事長兼CEO尹志堯之前在美國硅谷一直從事半導(dǎo)體工作，在美國應(yīng)用材料（全球第一大半導(dǎo)體設(shè)備企業(yè)）中就擔任過總公司副總裁一職。2004年，尹志堯從美國回到中國，同年在上海創(chuàng)辦中微半導(dǎo)體。

關(guān)于5nm刻蝕機，給大家簡單介紹一下。在過去九年中，中微半導(dǎo)體先后承擔并圓滿完成了65-45納米、32-22納米、22-14納米共三項刻蝕機的研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化任務(wù)（國家02重大專項任務(wù)）。這使得國內(nèi)刻蝕機技術(shù)基本與國外同行先進水平保持了同步。中微半導(dǎo)體現(xiàn)在研發(fā)的是全球最先進的5納米等離子（介質(zhì)）刻蝕機。在整個芯片制造工藝過程中，刻蝕工藝只是其中一環(huán)。也就是說，這僅僅是5nm工藝技術(shù)一個組成部分，且不是最重要的組成部分。5nm工藝節(jié)點最重要的設(shè)備應(yīng)該是光刻機。光刻機負責拍照片把集成電路的影像印在硅晶元上，蝕刻機則負責把光刻機的影像腐蝕出來變成電路。因此，網(wǎng)絡(luò)上的許多報道是夸大了中微的成就。2017年4月，中微半導(dǎo)體發(fā)布了一則聲明：“正是中微的客戶——國際一流的集成電路制造廠商，推動了芯片技術(shù)和生產(chǎn)一代又一代的進步。中微作為設(shè)備公司，是向他們提供可加工先進器件的設(shè)備，協(xié)助他們實現(xiàn)新一代器件的開發(fā)和生產(chǎn)。中微不可能脫離他們的5納米技術(shù)開發(fā)，而獨立地掌握5納米技術(shù)。”這是一個比較客觀的聲明。

綜上所述，中微取得的成就無疑是令人興奮的，但也并不能夸大其詞，不符合客觀實際。因為，論半導(dǎo)體工藝，英特爾、臺積電和三星依然是世界上最領(lǐng)先的三家公司。

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