上交大研制出高速硅基微環(huán)電光調(diào)制器,其調(diào)制速率高達30Gbps

Lynn 8年前 (2018-01-03)

該研究在提高光電器件性能的基礎(chǔ)上降低器件的功耗,其功耗只有100 fJ bit。

通信領(lǐng)域,三大關(guān)鍵要素之一就是調(diào)制,它主要就是對信號源的信息進行處理使其適合于信道傳輸。現(xiàn)在出于對信號傳輸速度的要求,電信號已經(jīng)遠遠不能滿足,行業(yè)內(nèi)多開始對光信號的調(diào)制和傳輸進行研究。

上交大研制出高速硅基微環(huán)電光調(diào)制器,其調(diào)制速率高達30Gbps

電光調(diào)制器

目前,在信號調(diào)制器的選擇上,電光調(diào)制器是光通訊學(xué)術(shù)界和產(chǎn)業(yè)界普遍關(guān)注的熱點。近日,上海交通大學(xué)研究團隊基于先進電子材料與器件(AEMD)平臺設(shè)備和加工條件,成功研制出了高速硅基微環(huán)電光調(diào)制器,最高調(diào)制速率達30Gbps。

上交大研制出高速硅基微環(huán)電光調(diào)制器,其調(diào)制速率高達30Gbps

硅是微電子器件制造應(yīng)用中最廣泛的材料,硅集成電路的應(yīng)用改變了當代世界的面貌,也改變了人們的生活方式。但是,一般硅集成電路只限于處理電信號,對光信號的處理顯得無能為力。硅基光電子器件因工藝與傳統(tǒng)CMOS工藝兼容,可實現(xiàn)低成本的光電子器件大規(guī)模集成,因而成為研究熱點。

此次,上交大研制出的調(diào)制器采用了220nm硅基脊形波導(dǎo)的微環(huán)諧振腔,加工工藝涉及電子束直寫光刻、離子注入、等離子增強化學(xué)氣相沉積、反應(yīng)離子刻蝕以及多靶磁控濺射等多步微納加工工藝技術(shù)。

除了緊湊的外形,研究人員還通過在微環(huán)波導(dǎo)上嵌入PN結(jié),實現(xiàn)了載流子耗盡型高速微環(huán)電光調(diào)制器。實驗中,研究人員通過計算得到,該器件的交流功耗在100 fJ/bit左右,比現(xiàn)有常見電光調(diào)制器的功耗水平低一個數(shù)量級。

上交大研制出高速硅基微環(huán)電光調(diào)制器,其調(diào)制速率高達30Gbps

不同調(diào)制速率下的眼圖

此次硅基微環(huán)電光調(diào)制器流片(流水線芯片)的研制成功為我國低功耗、緊湊電光調(diào)制器的研究提供了有力的支撐。

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