不用High-NA EUV光刻機(jī),臺(tái)積電也能贏?
隨著臺(tái)積電在2025年北美技術(shù)研討會(huì)上進(jìn)一步揭曉最新工藝進(jìn)展,比2nm工藝更先進(jìn)的1.4nm工藝(A14工藝)開始逐漸披露最新細(xì)節(jié)...
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