這次提到的是DUV光刻機出口，并非更先進的EUV光刻機。

10月14日，荷蘭ASML首席財務官Roger Dassen就向中國出口光刻機的問題上發(fā)表了口頭聲明。他表示，在一定情況下，向中國出口DUV（深紫外）光刻機無需美國許可。

有人表示，有了光刻機的支持，中國半導體發(fā)展將有很大進步。

但也有人評論稱，這次中國企業(yè)隨便購買的只是DUV光刻機，并不是技術(shù)含量最高的EUV（極紫光）光刻機。

ASML：DUV出口不受美國限制

當?shù)貢r間10月14日，半導體巨頭、全球光刻機領(lǐng)頭企業(yè)ASML發(fā)布了其2020年第三季度財報，請首席財務官羅杰·達森（Roger Dassen）也接受了視頻采訪。

當被問及美國的半導體出口禁令對ASML的業(yè)務有何種影響時，達森回應稱，他們注意到了美方的禁令，也意識到了禁令對中國客戶的影響。隨后達森表示：“如果要解釋一下美國的規(guī)定對ASML有什么影響的話，對于的中國客戶，我們還是可以直接從荷蘭向他們出口DUV光刻機，無需任何出口許可。”

但他隨后也補充稱，如果相關(guān)系統(tǒng)或零件是從美國出口的，那這些設(shè)備仍然需要得到美方的許可。

達森表示，ASML將盡最大努力，盡可能為所有客戶繼續(xù)提供服務和支持。

根據(jù)公開的財報電話會議錄音，ASML首席執(zhí)行官彼得·韋尼克（Peter Wennink）也在會議上確認了這一點。

韋尼克稱，根據(jù)當前美國的規(guī)定，直接從荷蘭向中國出口的DUV光刻機不受影響。

重視中國市場，第二次表態(tài)

事實上這是最近AMSL第二次針對中國市場的表態(tài)。

在今年9月17日，美國制裁華為禁令生態(tài)后的第三天，ASML全球副總裁沈波先生就表態(tài)，ASML作為全球半導體行業(yè)的合作伙伴，未來ASML將會加快在中國市場的布局。

目前中國是最大的芯片需求國，現(xiàn)在又需要生產(chǎn)大量的先進制程的芯片，這自然就需要用到大量的EUV光刻機。

面對這樣一個潛力龐大的市場，AMSL自然不愿放棄。

根據(jù)ASML發(fā)布的財報，2020年第三季度ASML光刻機凈銷售額達31億歐元，其中中國大陸市場的營收占到21%。

今年5月，ASML與無錫高新區(qū)簽署了戰(zhàn)略合作協(xié)議，在無錫高新區(qū)內(nèi)擴建升級ASML光刻設(shè)備技術(shù)服務（無錫）基地。

而此前，ASML已在北京、上海、深圳、無錫等地開設(shè)分公司,其中深圳更是其在亞洲最大的軟件研發(fā)中心。

不是EUV，頂尖光刻機仍是問題

值得一提的是，達森和韋尼克都強調(diào)的是DUV光刻機出口，并未提到更先進的EUV（極紫外）光刻機。

而彭博社也在14日的報道中強調(diào)，DUV的規(guī)則不適用于EUV光刻機。ASML必須獲得許可證才有可能向中國企業(yè)出口EUV光刻機。但荷蘭政府已經(jīng)暫緩了EUV光刻機出口許可，一直到現(xiàn)在都沒有批準。

EUV光刻機和DUV光刻機有什么不同？

根據(jù)曝光源的不同，光刻機分為EUV型（極深紫外線）、DUV型（深紫外線）。從制程范圍來看，DUV可以制造28nm-7nm之間的各種芯片，但7nm以下的先進制程必須用到EUV光刻機。

如果沒有EUV光刻機，那個國產(chǎn)芯片制程只能止步7nm。

而ASML是目前全球唯一能夠量產(chǎn)EUV光刻機的廠商。

據(jù)了解，EUV光刻機不需要多重曝光，一次就能曝出想要的精細圖形，沒有超純水和晶圓接觸，在產(chǎn)品生產(chǎn)周期、光學鄰近效應矯正的復雜程度、工藝控制、良率等方面都有明顯優(yōu)勢。

就是這么一臺設(shè)備，一臺需要10萬個零配件，價值高達7億人民幣，而且一年產(chǎn)量只有幾十臺，且有限供應給三星、臺積電等大客戶。此前中芯國際2018年5月才下單給ASML。

國內(nèi)廠商想購買一臺，太難。

中科院入局，國內(nèi)廠商突破

事實上，ASML最擔心的還是國內(nèi)廠商實現(xiàn)技術(shù)突破，從而導致ASML損失國內(nèi)市場。

據(jù)悉，雖然目前國產(chǎn)光刻機還無法與ASML的先進光刻機相比，但國內(nèi)廠商一直都在突破，預計在2021年就能夠上市28nm的國產(chǎn)光刻機。

另外，中科院也已經(jīng)正式宣布，要集中力量解決主要問題，像光刻機等。

9月16日，中科院院長白春禮在中國科學院 “率先行動”計劃第一階段實施進展發(fā)布會上表示，“率先行動”計劃第二階段要把美國 “卡脖子”的清單變成科研任務清單進行布局，集中全院力量聚焦國家最關(guān)注的重大領(lǐng)域攻關(guān)，這其中就包括了光刻機。

除中科院外，華為等廠商也加速研發(fā)突破光刻機等技術(shù)，僅華為就計劃在2年內(nèi)投入80億美元，要在光刻機技術(shù)方面實現(xiàn)突破。一旦國產(chǎn)光刻機實現(xiàn)突破，ASML在DUV光刻機上價格優(yōu)勢也不再有。

尾聲

從ASML角度來看，出售DUV光刻機一方面為了打開國內(nèi)的市場，另一方面也為了延緩國產(chǎn)光刻機的研發(fā)進度。

但在美國制裁的背景下，整個行業(yè)指望設(shè)備完全國產(chǎn)化也是不現(xiàn)實的事情，所以購買ASML的DUV光刻機解決燃眉之急應該是絕大多數(shù)企業(yè)的首選。

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