芯片巨頭也有判斷失誤的時候。

3年前，新上任的英特爾CEO基辛格推出了雄心勃勃的IDM 2.0代工戰(zhàn)略，他們的目標(biāo)是在2030年成為全球第二大晶圓代工廠。

當(dāng)時，臺積電手握著全球晶圓代工近一半的業(yè)務(wù)，三星市占率大約10%，留給其它晶圓代工廠的份額所剩無幾。

作為一家老牌IDM企業(yè)（企業(yè)自行設(shè)計芯片、生產(chǎn)、封裝和測試），英特爾擁有芯片設(shè)計公司不具備的制造能力。

因此在面臨芯片行業(yè)競爭升級的局面時，基辛格選擇大力投資建設(shè)晶圓廠，并推出了一個激進的目標(biāo)。

三年來，英特爾不斷強調(diào)著代工戰(zhàn)略的重要性，并不斷完善該計劃的實現(xiàn)路徑。

而在外部，美國政府推出的芯片補貼計劃，也在為英特爾的代工戰(zhàn)略添磚加瓦。

但在全球十大晶圓代工廠榜單里，英特爾很難能擠進前十，并且該部門的虧損數(shù)額也越來越大。

當(dāng)?shù)貢r間4月2日，英特爾披露其代工業(yè)務(wù)運營虧損繼續(xù)加深。

英特爾表示，該部門2023年的運營虧損為70億美元，比前一年的52億美元運營虧損更大。

距離最終目標(biāo)還有六年，為什么英特爾代工業(yè)務(wù)連起步都這么困難？

重啟代工計劃3年，英特爾做了什么？

與股價沖天的英偉達相比，曾經(jīng)的芯片巨頭英特爾仿佛已經(jīng)頂?shù)搅颂旎ò濉＜词古cAMD相比，英特爾依然處于下風(fēng)。

如果從營業(yè)收入這個角度出發(fā)，英特爾在過去4年里依次為778.67億元、790.24億元、630.54億元以及542.28億元。

若再加上營業(yè)成本的話，英特爾的營收毛利以及凈利潤可謂逐年倒退。

從英特爾公布的年報來看，當(dāng)前最大的收入來自于客戶計算業(yè)務(wù)和數(shù)據(jù)中心AI業(yè)務(wù)，收入占比達到80%，而基辛格大力推進的晶圓代工服務(wù)依然屬于“邊緣業(yè)務(wù)”。

其實這里出現(xiàn)了一個問題，即基辛格推動IDM2.0的最初目的，希望將芯片生產(chǎn)獨立運營出來，在全球芯片產(chǎn)能緊張的前提下，為業(yè)界來增加營收，同時減弱整個產(chǎn)業(yè)鏈對于亞洲代工的依賴。

但經(jīng)過三年時間發(fā)展，IDM2.0不僅沒有帶來該有的收益，甚至虧損數(shù)額越來越大。

其實當(dāng)我們將基辛格三年前的演講與現(xiàn)在的計劃對比后就可以發(fā)現(xiàn)，英特爾代工業(yè)務(wù)的重心已經(jīng)越來越偏向追求先進制程，而不是追求收入。

那么英特爾目前的實力究竟能不能撐得起先進制程的需求呢？目前還要打個問號。

一直以來，業(yè)內(nèi)都批評英特爾是一家躺平的“牙膏廠”。在近幾年AMD、蘋果等廠商的圍攻之下，英特爾處理器雖然性能依然出色，但再也不能安心“擠牙膏”。

正是如此，IDM2.0的推出希望從內(nèi)部將先進工藝節(jié)點推向7nm、5nm乃至3nm，同時將14nm和10nm廠房逐步轉(zhuǎn)變?yōu)榫A代工業(yè)務(wù)。

但不過有業(yè)內(nèi)人士表示，英特爾在推進新工藝的同時，卻忽視了EUV光刻機的重要性。之前有消息稱，英特爾取消或者推遲了ASML EUV光刻機的訂單，而臺積電和三星幾乎搶下了所有ASML的產(chǎn)能。

就在昨晚的演講中，基辛格也承認(rèn)了制造業(yè)務(wù)因錯誤決定而受到拖累，包括一年前反對使用ASML的EUV光刻機，主要原因在于這些機器的成本超高，成本效益低于英特爾已有的芯片制造工具。

而代價是，英特爾不得不將約三成的晶圓生產(chǎn)外包給包括臺積電在內(nèi)的其他代工廠，自己非但沒賺到錢，還將到手的客戶送給了競爭對手。

除了對于EUV出現(xiàn)誤判造成了巨額虧損以外。英特爾在短期目標(biāo)上也找錯了對手。

前面說到，英特爾代工的目標(biāo)，是在2030年成為僅次于臺積電的全球第二大代工廠，因此直接的競爭對手就是另一家IDM同行三星。

然而芯片代工是一個高度集中的寡頭市場，臺積電與三星兩家企業(yè)占據(jù)過七成的市場份額，剩下的老牌代工廠瓜分其他份額。

為了加強晶圓代工業(yè)務(wù)，英特爾嘗試收購以色列晶圓代工高塔半導(dǎo)體以及全球四大晶圓代工廠格芯（該交易遭到雙方否認(rèn)），但最終因為未獲中國同意而以失敗告終。

這次合作的終止也再次體現(xiàn)芯片代工行業(yè)競爭殘酷，英特爾想要改變晶圓代工市場的格局，最終還是要落在先進制程的突破上。

從最新的進展來看，英特爾已經(jīng)成功拿下ASML新一代的高數(shù)值孔徑（High-NA）EUV光刻機EXE:5000系列，而臺積電和三星更傾向于采用低成本的成熟技術(shù)。

同時，英特爾還展示了14A（1.4nm）工藝，試圖從工藝上反超臺積電。

如果說過去三年里英特爾用大額虧損作為走了不少彎路，那么全力沖刺先進制程之后，英特爾能否打動客戶呢？

再迎“百億補貼”，英特爾不能再躺平

雖然英特爾虧損得多，但好消息是美國政府的補貼同樣很多。

靠著一個390億美元的《芯片法案》補貼，位于美國本土的英特爾成了最大贏家。

據(jù)悉，英特爾最初可以獲得一筆為期3年的35億美元撥款，而美國政府最終可以為其送出近200億美元的“大禮包”，包括85億美元資助和110億美元貸款擔(dān)保。

這筆資金將用于支持英特爾在美國四個州的芯片工廠建設(shè)，而該公司計劃在五年內(nèi)投資超過1000億美元。

事實上，美國政府的補貼對于其他半導(dǎo)體企業(yè)的補貼，同樣是為英特爾的代工事業(yè)打牢基礎(chǔ)——這些供應(yīng)商形成產(chǎn)業(yè)聚集地之后，可以大幅降低英特爾的生產(chǎn)成本。

不過就目前的進度來看，臺積電依然掌握著1nm-2nm制程節(jié)點的主動權(quán)，并且可以靠著高額的投入保證其良品率。

相比之下，初來乍到的英特爾還不能完全放下核心業(yè)務(wù)，如此燒錢的制程產(chǎn)線，英特爾恐怕還要繼續(xù)虧損。

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