放開DUV光刻機(jī)出口!ASML回應(yīng)中國市場問題

jh 5年前 (2020-10-16)

這次提到的是DUV光刻機(jī)出口,并非更先進(jìn)的EUV光刻機(jī)。

10月14日,荷蘭ASML首席財(cái)務(wù)官Roger Dassen就向中國出口光刻機(jī)的問題上發(fā)表了口頭聲明。他表示,在一定情況下,向中國出口DUV(深紫外)光刻機(jī)無需美國許可。

有人表示,有了光刻機(jī)的支持,中國半導(dǎo)體發(fā)展將有很大進(jìn)步。

但也有人評論稱,這次中國企業(yè)隨便購買的只是DUV光刻機(jī),并不是技術(shù)含量最高的EUV(極紫光)光刻機(jī)。

ASML:DUV出口不受美國限制

當(dāng)?shù)貢r(shí)間10月14日,半導(dǎo)體巨頭、全球光刻機(jī)領(lǐng)頭企業(yè)ASML發(fā)布了其2020年第三季度財(cái)報(bào),請首席財(cái)務(wù)官羅杰·達(dá)森(Roger Dassen)也接受了視頻采訪。

當(dāng)被問及美國的半導(dǎo)體出口禁令對ASML的業(yè)務(wù)有何種影響時(shí),達(dá)森回應(yīng)稱,他們注意到了美方的禁令,也意識(shí)到了禁令對中國客戶的影響。隨后達(dá)森表示:“如果要解釋一下美國的規(guī)定對ASML有什么影響的話,對于的中國客戶,我們還是可以直接從荷蘭向他們出口DUV光刻機(jī),無需任何出口許可。”

但他隨后也補(bǔ)充稱,如果相關(guān)系統(tǒng)或零件是從美國出口的,那這些設(shè)備仍然需要得到美方的許可。

達(dá)森表示,ASML將盡最大努力,盡可能為所有客戶繼續(xù)提供服務(wù)和支持。

根據(jù)公開的財(cái)報(bào)電話會(huì)議錄音,ASML首席執(zhí)行官彼得·韋尼克(Peter Wennink)也在會(huì)議上確認(rèn)了這一點(diǎn)。

韋尼克稱,根據(jù)當(dāng)前美國的規(guī)定,直接從荷蘭向中國出口的DUV光刻機(jī)不受影響。

重視中國市場,第二次表態(tài)

事實(shí)上這是最近AMSL第二次針對中國市場的表態(tài)。

在今年9月17日,美國制裁華為禁令生態(tài)后的第三天,ASML全球副總裁沈波先生就表態(tài),ASML作為全球半導(dǎo)體行業(yè)的合作伙伴,未來ASML將會(huì)加快在中國市場的布局。

目前中國是最大的芯片需求國,現(xiàn)在又需要生產(chǎn)大量的先進(jìn)制程的芯片,這自然就需要用到大量的EUV光刻機(jī)。

面對這樣一個(gè)潛力龐大的市場,AMSL自然不愿放棄。

根據(jù)ASML發(fā)布的財(cái)報(bào),2020年第三季度ASML光刻機(jī)凈銷售額達(dá)31億歐元,其中中國大陸市場的營收占到21%。

今年5月,ASML與無錫高新區(qū)簽署了戰(zhàn)略合作協(xié)議,在無錫高新區(qū)內(nèi)擴(kuò)建升級ASML光刻設(shè)備技術(shù)服務(wù)(無錫)基地。

而此前,ASML已在北京、上海、深圳、無錫等地開設(shè)分公司,其中深圳更是其在亞洲最大的軟件研發(fā)中心。

不是EUV,頂尖光刻機(jī)仍是問題

值得一提的是,達(dá)森和韋尼克都強(qiáng)調(diào)的是DUV光刻機(jī)出口,并未提到更先進(jìn)的EUV(極紫外)光刻機(jī)。

而彭博社也在14日的報(bào)道中強(qiáng)調(diào),DUV的規(guī)則不適用于EUV光刻機(jī)。ASML必須獲得許可證才有可能向中國企業(yè)出口EUV光刻機(jī)。但荷蘭政府已經(jīng)暫緩了EUV光刻機(jī)出口許可,一直到現(xiàn)在都沒有批準(zhǔn)。

EUV光刻機(jī)和DUV光刻機(jī)有什么不同?

根據(jù)曝光源的不同,光刻機(jī)分為EUV型(極深紫外線)、DUV型(深紫外線)。從制程范圍來看,DUV可以制造28nm-7nm之間的各種芯片,但7nm以下的先進(jìn)制程必須用到EUV光刻機(jī)。

如果沒有EUV光刻機(jī),那個(gè)國產(chǎn)芯片制程只能止步7nm。

而ASML是目前全球唯一能夠量產(chǎn)EUV光刻機(jī)的廠商。

據(jù)了解,EUV光刻機(jī)不需要多重曝光,一次就能曝出想要的精細(xì)圖形,沒有超純水和晶圓接觸,在產(chǎn)品生產(chǎn)周期、光學(xué)鄰近效應(yīng)矯正的復(fù)雜程度、工藝控制、良率等方面都有明顯優(yōu)勢。

就是這么一臺(tái)設(shè)備,一臺(tái)需要10萬個(gè)零配件,價(jià)值高達(dá)7億人民幣,而且一年產(chǎn)量只有幾十臺(tái),且有限供應(yīng)給三星、臺(tái)積電等大客戶。此前中芯國際2018年5月才下單給ASML。

國內(nèi)廠商想購買一臺(tái),太難。

中科院入局,國內(nèi)廠商突破

事實(shí)上,ASML最擔(dān)心的還是國內(nèi)廠商實(shí)現(xiàn)技術(shù)突破,從而導(dǎo)致ASML損失國內(nèi)市場。

據(jù)悉,雖然目前國產(chǎn)光刻機(jī)還無法與ASML的先進(jìn)光刻機(jī)相比,但國內(nèi)廠商一直都在突破,預(yù)計(jì)在2021年就能夠上市28nm的國產(chǎn)光刻機(jī)。

另外,中科院也已經(jīng)正式宣布,要集中力量解決主要問題,像光刻機(jī)等。

9月16日,中科院院長白春禮在中國科學(xué)院 “率先行動(dòng)”計(jì)劃第一階段實(shí)施進(jìn)展發(fā)布會(huì)上表示,“率先行動(dòng)”計(jì)劃第二階段要把美國 “卡脖子”的清單變成科研任務(wù)清單進(jìn)行布局,集中全院力量聚焦國家最關(guān)注的重大領(lǐng)域攻關(guān),這其中就包括了光刻機(jī)。

除中科院外,華為等廠商也加速研發(fā)突破光刻機(jī)等技術(shù),僅華為就計(jì)劃在2年內(nèi)投入80億美元,要在光刻機(jī)技術(shù)方面實(shí)現(xiàn)突破。一旦國產(chǎn)光刻機(jī)實(shí)現(xiàn)突破,ASML在DUV光刻機(jī)上價(jià)格優(yōu)勢也不再有。

尾聲

從ASML角度來看,出售DUV光刻機(jī)一方面為了打開國內(nèi)的市場,另一方面也為了延緩國產(chǎn)光刻機(jī)的研發(fā)進(jìn)度。

但在美國制裁的背景下,整個(gè)行業(yè)指望設(shè)備完全國產(chǎn)化也是不現(xiàn)實(shí)的事情,所以購買ASML的DUV光刻機(jī)解決燃眉之急應(yīng)該是絕大多數(shù)企業(yè)的首選。

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